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【盛美上海首台PECVD SiCN设备顺利出机】金十数据4月27日讯,4月27日,盛美上海宣布,其首台等离子体增强化学气

文 / 小金 2026-04-27 08:30:03 来源:亚金网

【盛美上海首台PECVD SiCN设备顺利出机】金十数据4月27日讯,4月27日,盛美上海宣布,其首台等离子体增强化学气相沉积(PECVD)碳氮化硅(SiCN)设备已正式出机。该设备旨在支持55纳米及以下高端IC工艺的后段金属互联工艺应用中的PECVD NDC (SiCN)工艺,应用场景包括铜氧化抑制、铜扩散阻挡层及刻蚀停止层。

 

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